发展国产芯片是亿万中国老百姓的梦想,在2018年,国产芯片在挫折中前进,虽然遭遇了“国外阻击战”,但依然取得不凡的成绩,国产首台22nm超分辨的光刻机就是一个重要的进步成果。如果我们深度地观察这台机器,不得不感到佩服:国产光刻机走上了一条不同于荷兰ASML的技术路线。

目前我们已经能够制造出了22nm的光刻机,虽然在制程上落后ASML公司好几代,但如果我们从技术上深度“解剖”国产22nm光刻机,你就是发现其中的厉害之处。22nm光刻机在前几年就有了,我们既然要做这台超分辨光刻机,自然不是“有样学样”那么简单,而是有很多自主创新!

我们采用的是DUV下的365nm光源加工出了22nm的分辨率,这跟荷兰ASML采用EUV光刻机的13.5nm光源加工极限为7nm的分辨率的技术原理很大不同。国产光刻机用DUV技术打破了传统的衍射极限,EUV技术虽然先进但但受限于衍射效应是有极限的。

这是怎么实现的呢?国产超分辨率光刻机采用的则是一种名为表面等离子光刻加工工艺,这是ASML光刻机所没有的。技术原理说起来简单,但怎么实现?外界无从知晓,这就是国产光刻机的厉害所在。

我们走的是实用技术路线,并没有盲目地上马技术成本高昂的EUV技术,选择了兼顾市场需求和技术性能。选择做365nmDUV紫外光刻机,其整体性能在DUV和EUV之间,很简单的例子,如果走EUV技术,制造成本需要上亿资金;而走DUV技术,制造成本几百万就可以。

国产芯片产业肯定不能一开始就瞄准世界第一,而是找准适合自己的发展道路,切勿好高骛远。光刻机选择中高端成熟的DUV技术做突破,既节省了资金,又达到了效果。

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